Установка для вакуумного осаждения металла из паровой фазы
РАЗДЕЛ XVI. МАШИНЫ, ОБОРУДОВАНИЕ И МЕХАНИЗМЫ; ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ; ИХ ЧАСТИ; ЗВУКОЗАПИСЫВАЮЩАЯ И ЗВУКОВОСПРОИЗВОДЯЩАЯ АППАРАТУРА, АППАРАТУРА ДЛЯ ЗАПИСИ И ВОСПРОИЗВЕДЕНИЯ ТЕЛЕВИЗИОННОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ И ЗВУКА, ИХ ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ
84 РЕАКТОРЫ ЯДЕРНЫЕ, КОТЛЫ, ОБОРУДОВАНИЕ И МЕХАНИЧЕСКИЕ УСТРОЙСТВА; ИХ ЧАСТИ
8419 Машины, оборудование промышленное или лабораторное с электрическим или неэлектрическим нагревом (исключая печи, камеры и другое оборудование товарной позиции 8514) для обработки материалов в процессе с изменением температуры, таком как нагрев, варка, жаренье, дистилляция, ректификация, стерилизация, пастеризация, пропаривание, сушка, выпаривание, конденсирование или охлаждение, за исключением машин и оборудования, используемых в бытовых целях; водонагреватели проточные или накопительные (емкостные), неэлектрические:
машины, агрегаты и оборудование прочие:
8419 89 прочие:
8419 89 300 0 установки для вакуумного осаждения металла из паровой фазы
| Импортная пошлина: | 0% |
| Экспортная пошлина: | Отсутствует |
| Ввозной НДС: | 20% |
Документы, необходимые для ввоза (вывоза)
Приведенный список документов основан на коде товара по ТН ВЭД и является ориентировочным. Необходимость получения документов зависит от характеристик конкретного товара.
Свяжитесь с нами для получения более точной информации.
Мы готовы оформить для Вас все эти документы.
Документы требуются при ввозе на территорию ЕАЭС радиоэлектронных средств (РЭС) и высокочастотных устройств (ВЧУ), входящих в раздел 2.16 приложения 2 к решению ЕЭК № 30 от 21 апреля 2015 года.
Разрешительный порядок применяется только к товарам, являющимся РЭС (или ВЧУ), по коду и наименованию попадающим в раздел 2.16 и не входящим в список исключений. При возникновении спорных ситуаций и сомнений у таможенных органов, можно оформить заключение РЧЦ, чтобы доказать, что товар не лицензируется.
Виды документов: Сертификат соответствия, Декларация о соответствии
* отдельные технические регламенты предусматривают иные виды подтверждения соответствия.
Документы требуются при ввозе товаров, на которые распространяются требования технических регламентов ЕАЭС, а также при их обращении и использовании на территории ЕАЭС. Общий перечень видов таких товаров установлен Решением Комиссии Таможенного союза от 28 ноября 2011 г. № 526.
Более подробная информация для данного кода ТН ВЭД представлена ниже.
Товары с кодом ТН ВЭД 8419 89 300 0 могут попадать по действие следующих технических регламентов ЕАЭС:
| Технический регламент | Наименование |
|---|---|
| Технический регламент ТС 010/2011 | О безопасности машин и оборудования |
Чтобы точно установить, распространяются ли требования конкретного регламента на товар, нужно внимательно изучить область применения регламента и характеристики товара.
Документы требуются при вывозе с территории России (иногда при ввозе) товаров двойного назначения (или товаров, которые потенциально могут быть отнесены к таковым).
Под товарами двойного назначения понимается продукция, которая потенциально может быть использована как в гражданской, так и в военной сфере.
Особенности внешнеэкономической деятельности в РФ с такими товарами регламентируются Федеральным законом РФ "Об экспортном контроле" от 18.07.1999 №183-ФЗ. Списки контролируемых товаров утверждены разными Указами Президента РФ.
Товары с кодом ТН ВЭД 8419 89 300 0 могут попадать в следующие списки контролируемых товаров:
| Список | Наименование |
|---|---|
| Список ДН (05) | Список товаров и технологий двойного назначения, которые могут быть использованы при создании вооружений и военной техники и в отношении которых осуществляется экспортный контроль Утвержден Указом Президента Российской Федерации от 17 декабря 2011 г. N 1661 |
При отнесении (неотнесении) товара к определенному списку кроме кода ТН ВЭД учитывается соответствие наименования товара и его особенностей указанным в списке.
Вопросы экспортного контроля регулируются национальным законодательством государств-членов ЕАЭС. Представленная выше информация относится исключительно к РФ.
Примеры декларирования по данному коду
Ниже приведена обезличенная информация о наименованиях и описаниях товаров, соответствующих кодам ТН ВЭД ЕАЭС, на основе статистики заполнения графы 31 таможенных деклараций. Данная информация может быть использована в образовательных или аналитических целях, в частности, для облегчения подбора кода ТН ВЭД при декларировании товаров.
Обратите внимание, что приведенные данные не являются официальными, и могут содержать ошибки и неточности. Для определения кода следует руководствоваться самой номенклатурой ТН ВЭД, официальнами пояснениями к ней, а также решениями о классификации отдельных товаров, принимаемыми Евразийской экономической комиссией или таможенными органами государств-членов ЕАЭС.
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; ОПОРА ДЛЯ ПОДВИЖНОГО КОНТАКТА КОД 1005. 0018. 0800 (EX. 9V500180800E) ; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A; (TM) NORDMECCANICA
ИЗДЕЛИЯ ДЛЯ ЛАБОРАТОРНЫХ, ХИМИЧЕСКИХ, ТЕХНИЧЕСКИХ ЦЕЛЕЙ (КЕРАМИЧЕСКИЕ ЛОДОЧКИ) , ИЗГОТОВЛЕННЫЕ ИЗ КЕРАМИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА НА ОСНОВЕ НИТРИДА БОРА И ДИБОРИДА ТИТАНА, ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ: TI -58, 42 %, N-39. 51%, CA-1, 87 %, SIO2-0, 11%, ЯВЛЯЮЩЕЙСЯ ОГНЕУПОРНЫМИ ОБОЖЕННЫМИ ИЗДЕЛИЯМИ С ОГНЕУКПОРНОСТЬЮ 1580-1750 ГРАДУСОВ ЦЕЛЬСИЯ. КЕРАМИЧЕСКИЕ ЧАШИ ДЛЯ ВЫПАРИВАНИЯ АЛЮМИНИЯ В МАШИНАХ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEM S. P. A. , NORDMECCANICA S. P. A. , BOBST, APPLIED MATERIALS INC, ЯВЛЯЮЩИЕСЯ НЕОТЪЕМЛЕМОЙ ЧАСТЬЮ МАШИН КОД ТН ВЭД 8419893000, НЕ СЛУЖАТ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ОТ ВЫСОКИХ ТЕМПЕРАТУР, НАГРЕВАЮТСЯ ПОСРЕДСТВОМ ПРОПУСКАНИЯ ЧЕРЕЗ НИХ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ТОКА, ОБЛАДАЮТ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬЮ ЗА СЧЕТ СОДЕРЖАНИЯ МЕТАЛЛА. ; ЧАША ДЛЯ ВЫПАРИВАНИЯ АЛЮМИНИЯ; (ФИРМА) KENNAMETAL INFRASTRUCTURE; (TM) KENNAMETAL
МАШИНА ВАКУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ МОДЕЛЬ: MEGA 2410/A, (ЧАСТЬ) , ГОД ВЫПУСКА 2011, В ЧАСТИЧНО РАЗОБРАННОМ ВИДЕ ДЛЯ ПЕРЕВОЗКИ, ДЛЯ НАПЫЛЕНИЯ АЛЮМИНИЯ НА ОБШИРНУЮ ГАММУ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПЛАСТИКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ. ; (ФИРМА) GALILEO VACUUM SISTEMS SPA. ; (TM) ОТСУТСТВУЕТ.
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; 9V500641508A ЭКРАН; (ФИРМА) NIRDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
ИЗДЕЛИЯ ДЛЯ ЛАБОРАТОРНЫХ, ХИМИЧЕСКИХ, ТЕХНИЧЕСКИХ ЦЕЛЕЙ (КЕРАМИЧЕСКИЕ ЛОДОЧКИ) , ИЗГОТОВЛЕННЫЕ ИЗ КЕРАМИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА НА ОСНОВЕ НИТРИДА БОРА И ДИБОРИДА ТИТАНА, ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ: TI -58, 42 %, N-39. 51%, CA-1, 87 %, SIO2-0, 11%, ЯВЛЯЮЩЕЙСЯ ОГНЕУПОРНЫМИ ОБОЖЕННЫМИ ИЗДЕЛИЯМИ С ОГНЕУКПОРНОСТЬЮ 1580-1750 ГРАДУСОВ ЦЕЛЬСИЯ. ЧАША ДЛЯ ВЫПАРИВАНМЯ АЛЮМИНИЯ В МАШИНАХ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS S. P. A. , NORDMECCANICA S. P. A. , BOBST, APPLIED MATERIALS INC , ЯВЛЯЮЩИЕСЯ НЕОТЪЕМЛЕМОЙ ЧАСТЬЮ МАШИН КОД ТН ВЭД 8419893000, НЕ СЛУЖАТ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ОТ ВЫСОКИХ ТЕМПЕРАТУР, НАГРЕВАЮТСЯ ПОСРЕДСТВОМ ПРОПУСКАНИЯ ЧЕРЕЗ НИХ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ТОКА, ОБЛАДАЮТ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬЮ ЗА СЧЕТ СОДЕРЖАНИЯ МЕТАЛЛА; КЕРАМИЧЕСКАЯ ЧАША ДЛЯ ВЫПАРИВАНИЯ АЛЮМИНИЯ; (ФИРМА) KENNAMETAL INFRASTRUCTURE GMBH; (TM) KENNAMETAL
ИЗДЕЛИЯ ДЛЯ ЛАБОРАТОРНЫХ, ХИМИЧЕСКИХ, ТЕХНИЧЕСКИХ ЦЕЛЕЙ (КЕРАМИЧЕСКИЕ ЛОДОЧКИ) , ИЗГОТОВЛЕННЫЕ ИЗ КЕРАМИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА НА ОСНОВЕ НИТРИДА БОРА И ДИБОРИДА ТИТАНА, ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ: TI -58, 42 %, N-39. 51%, CA-1, 87 %, SIO2-0, 11%, ЯВЛЯЮЩЕЙСЯ ОГНЕУПОРНЫМИ ОБОЖЕННЫМИ ИЗДЕЛИЯМИ С ОГНЕУКПОРНОСТЬЮ 1580-1750 ГРАДУСОВ ЦЕЛЬСИЯ. ДЛЯ ВЫПАРИВАНМЯ АЛЮМИНИЯ В МАШИНАХ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS S. P. A. , NORDMECCANICA S. P. A. , BOBST, APPLIED MATERIALS INC, ЯВЛЯЮЩИЕСЯ НЕОТЪЕМЛЕМОЙ ЧАСТЬЮ МАШИН КОД ТН ВЭД 8419893000, НЕ СЛУЖАТ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ОТ ВЫСОКИХ ТЕМПЕРАТУР, НАГРЕВАЮТСЯ ПОСРЕДСТВОМ ПРОПУСКАНИЯ ЧЕРЕЗ НИХ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ТОКА, ОБЛАДАЮТ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬЮ ЗА СЧЕТ СОДЕРЖАНИЯ МЕТАЛЛА. ; ЧАША ДЛЯ ВЫПАРИВАНИЯ АЛЮМИНИЯ; (ФИРМА) KENNAMETAL INFRASTRUCTURE GMBH; (TM) KENNAMETAL
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; ДАТЧИК ОПТИЧЕСКОЙ ПЛОТНОСТИ, КОД 9V600530145A; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; ЭКРАН, КОД 100500641452; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
ОБОРУДОВАНИЕ ПРОМЫШЛЕННОЕ С ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ НАГРЕВОМ: СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ГЛУБОКОМ ВАКУУМЕ - ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ АЛЮМИНИЕВОГО ПОКРЫТИЯ С ОДНОЙ СТОРОНЫ НА СВЕТОТЕХНИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ АВТОМОБИЛЕЙ И МОТОЦИКЛОВ(ФАР, ЗАДНИХ ФОНАРЕЙ) ,; ПУТЕМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ АЛЮМИНИЯ ДО ПАРООБРАЗНОГО СОСТОЯНИЯ И ЕГО ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ НА ДЕТАЛИ(СОЗДАНИЕ ТОНКОЙ ПЛЕНКИ) И НАНЕСЕНИЕ ЗАЩИТНОГО ПОКРЫТИЯ НА ЭТУ ПЛЕНКУ. ОБОРУДОВАНИЕ ПОСТАВЛЯЕТСЯ ДЛЯ СОБСТВЕННЫХ НУЖД, НОВОЕ 2018Г/В, ; (ФИРМА) ; (TM)
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; НАБОР ПРОКЛАДОК ДИФФУЗИОННОЙ ПОМПЫ NHS 35; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; ДАТЧИК ОПТИЧЕСКОЙ ПЛОТНОСТИ; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ: ; А ВАККУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПЛАСТИН С ВЕРТИКАЛЬНОЙ ЗАГРУЗКОЙ. ПОСТАВЛЯЕТСЯ В РАЗОБРАННОМ ВИДЕ. СОСТОИТ ИЗ СЛЕДУЮЩИХ ОСНОВНЫХ УЗЛОВ: 1. НАСОСНАЯ СИСТЕМА ВЫСОКОГО ВАКУУМА. В СОСТАВЕ: A) . НАСОС ДИФФУЗИОННЫЙ ПАРОМАСЛЯНЫЙ ДЛЯ ВЫСОКОВАКУУМНОЙ; (ФИРМА) WUXI HONGRUI MACHINERY MANUFACTURING CO. , LTD; (TM) ОТСУТСТВУЕТ
УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ. НЕ СОДЕРЖИТ ИСТОЧНИКОВ РАДИОАКТИВНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ И ОЗОНОРАЗРУШАЮЩИХ ВЕЩЕСТВ. ГРАЖДАНСКОГО НАЗНАЧЕНИЯ; СИСТЕМА ВАКУУМНОГО НАПЫЛЕНИЯ TFSP-8442 (СЕРИЙНЫЙ НОМЕР 19842) ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ИЛИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ. СОСТОИТ ИЗ: ; (ФИРМА) VST SERVICES LTD; (TM) VST SERVICES LTD
УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ, УСТАНОВКА ВАКУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ, БЫВШАЯ В УПОТРЕБЛЕНИИ, 2015 Г/В. ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ОТРАЖАЮЩИХ ПОКРЫТИЙ ИЗ МЕТАЛЛОВ (АЛЮМИНИЯ, СЕРЕБРА И Т. П. ) НА ДЕТАЛИ МЕТОДОМ ТЕРМИЧЕСКОГО; ИСПАРЕНИЯ И КОНДЕНСАЦИИ В ВАКУУМЕ. СОСТОИТ ИЗ СЛЕДУЮЩИХ ОСНОВНЫХ КОМПОНЕНТОВ: ВАКУУМНАЯ (ЦЕНТРАЛЬНАЯ) КАМЕРА - 1 ШТ. , ВАКУУМНАЯ (ДВЕРЬ) ПОЛУКАМЕРА - 2 ШТ. ФОРВАКУУМНЫЙ НАСОС OLV SOGEVAC SV 630-BF - 2 ШТ. , НАСОС РУТСА OLV WH 2500 - 2 ШТ. , ИНВЕРТОР; (ФИРМА) TECNO VACUUM S. R. L. ; (TM) TECNO VACUUM
УСТАНОВКА ДЛЯ ВАКУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ PET ПЛЕНКИ. МЕТАЛЛИЗАТОР ВАКУУМНЫЙ. ДЛЯ СОБСТВЕННЫХ ПРОИЗВОДСТВЕННЫХ НУЖД НА ТЕРРИТОРИИ ОЭЗ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ. НЕ СОДЕРЖИТ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ УСТРОЙСТВ: ; - МЕТАЛЛИЗАТОР ВАКУУМНЫЙ ТИП POWERMET 25F. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ: МАКСИМАЛЬНАЯ ШИРИНА ПЛЕНКИ: 2550 ММ МАКСИМАЛЬНАЯ ШИРИНА МЕТАЛЛИЗАЦИИ: 2500 ММ МИНИМАЛЬНАЯ ШИРИНА МЕТАЛЛИЗАЦИИ: 1250 ММ МАКСИМАЛЬНЫЙ ДИАМЕТР: ; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) ОТСУТСВУЕТ
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; УПЛОТНЕНИЕ НИЗКОВОЛЬТНОГО КАНАЛА; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
ЧАСТЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛА ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ GALILEO VACUUM SYSTEMS; КОРПУС ФОТОМЕТРИЧЕСКИХ ДАТЧИКОВ; (ФИРМА) NORDMECCANICA S. P. A. ; (TM) NORDMECCANICA
УСТАНОВКИ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛОВ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ (УСТАНОВКА БЕЗКИСЛОТНОГО РАЗДЕЛЕНИЯ МЕТАЛЛОВ) ALS 125 2C FC. НЕ ОТНОСИТСЯ К ТОВАРАМ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ. ВВОЗИТСЯ ДЛЯ СОБСТВЕННЫХ НУЖД. ДЛЯ УДОБСТВА ТРАНСПОРТИРОВКИ ПОСТАВЛЯЕТСЯ В ЧАСТИЧНО РАЗОБРАНОМ ВИДЕ. ; В КОМПЛЕКТЕ: 1. ГЛАВНАЯ РАМА СОСТОИТ: НЕСУЩАЯ РАМА ИЗ УГЛЕРОДИСТОЙ СТАЛИ С РАБОЧЕЙ ПЛАТФОРМОЙ; ВЫСОКОВАКУУМНАЯ ГЕРМЕТИЧНАЯ КАМЕРА С ДВОЙНЫМИ СТЕКЛАМИ; ОДНА ПАРА ПОВЕРХНОСТНЫХ КОНДЕНСАТОРОВ; (ФИРМА) IKOI S. P. A. ; (TM) ОТСУТСТВУЕТ
Навигация
См. также
Энциклопедия IFCG
Хотите узнать больше об особенностях ввоза отдельных категорий товаров? Читайте нашу энциклопедию:
Вакуумное напыление - обработка поверхности, нанесение слоев материала на подложку.
металлы (например, кадмий, хром, медь, никель, титан)
неметаллы (например, керамические матричные композиты из углерода / углерода, карбид углерода / кремния и т. д.)
Технологии осаждения паров включают процессы, которые переводят материалы в парообразное состояние путем конденсации, химической реакции. Когда паровая фаза создается из жидкого или твердого источника, это называется физическим осаждением из паровой фазы (PVD). При получении химической реакции происходит известен как химическое осаждение из паровой фазы (CVD).Вакуумное напыление происходит с плазмой или без нее. Вакуумная среда имеет следующие преимущества:
Уменьшение плотности частиц
Уменьшение плотности частиц нежелательных атомов и молекул
Обеспечение появления плазмы
Возможность регулирования состава газов и паров
Осаждение паров добавляет материал только на поверхность, оставляя большую часть объекта относительно неизменной. В результате свойства поверхности обычно изменяются без значительных изменений микроструктуры подложки.
Физическое осаждение из паровой фазы (PVD напыление)
Физическое осаждение из паровой фазы представляет собой тонкопленочный метод, при котором покрытие наносится поверх всего объекта, а не в определенные области. Всё вакуумное напыление PVD объединяют:
Активный газ, такой как азот, кислород или метан
Основными методами вакуумного напыления PVD являются ионное нанесение, ионная имплантация, распыление и лазерное поверхностное легирование. Общий принцип один: газифицированный материал конденсируется на материале подложки для создания желаемого слоя. Таким образом, здесь не происходит химических реакций.
Ионное покрытие в вакууме
Плазменное ионное покрытие используется для осаждения металлов, таких как титан, алюминий, медь, золото и палладий на поверхности составной части. Толщина обычно составляют от 0,008 до 0,025 мм. Преимущества: адгезия, чистота поверхности, очистка поверхности подложки перед нанесением пленки и корректировка свойств пленки (например, морфология, плотность и остаточное напряжение пленки).
Недостатки: необходимость жестко контролировать параметры обработки, потенциальное загрязнение, активируемое в плазме, и возможное загрязнение частиц бомбардируемого газа.
Типичные области применения: рентгеновские трубки, трубопроводные резьбы, используемые в химических средах, лопасти турбины авиационных двигателей, стальные буровые долота, зубчатые колеса, высокоточные литьевые формы, алюминиевые вакуумно-уплотнительные фланцы, декоративные покрытия и антикоррозионная защита в ядерных реакторах.
Ионная имплантация
Ионная имплантация не создает дискретного покрытия, скорее, изменяет элементный химический состав существующей поверхности подложки путем легирования. Азот, например, используется для повышения износостойкости металлов. Чистота поверхности имеет важное значение для данной технологии. Предварительная обработка (например, обезжиривание, полоскание и ультразвуковая очистка) для удаления любых поверхностных загрязнений перед имплантацией очень важно. Время осаждения зависит от температурного сопротивления заготовки и требуемой дозы имплантации.
Ионная имплантация может использовать любой элемент, который может испаряться и ионизироваться в вакуумной камере. Преимущества этого процесса включают воспроизводимость, ликвидацию последующей обработки и минимальное образование отходов. Ионная имплантация не обеспечивает стабильной отделки, если покрытие подвергается воздействию высоких температур.
Ионная имплантация используется в качестве противоизносной обработки для компонентов с высокой стоимостью, таких как биомедицинские устройства (например, протезы), инструменты (например, пресс-формы, штампы, пуансоны, режущие инструменты и вставки). Другие промышленные применения включают нанесение золота, керамики и других материалов на подложки из арсенида пластика, керамики, кремния и галлия для полупроводниковой промышленности.
Распыление и вакуумное напыление
Распыление - нанесения, который изменяет физические свойства поверхности. Здесь газовый плазменный разряд устанавливается между двумя электродами: материалом катода и анодной подложкой. Пленки получаются очень тонкие, от 0,00005 до 0,01 мм. Данным способом часто наносятся хром, титан, алюминий, медь, молибден, вольфрам, золото и серебро.
Пленки с нанесенным слоем обычно используются в декоративных приложениях, таких как браслеты, очки и украшения. Электронная промышленность использует вакуумное напыление (например, проводка тонкой пленки на чипах и записывающих головах, а также магнитные и магнитооптические носители записи). Компании также используют осаждение вакуумным напылением для производства отражающих пленок для архитектурного стекла. В пищевой упаковочной промышленности используется распыление для производства тонких пластиковых пленок для упаковки. По сравнению с другими процессами осаждения напыление является относительно недорогим.
Поверхностное легирование
Поверхностное легирование с использованием лазеров: впрыскивание другого материала в расплав. Поверхностная обработка данным способом даёт высокотемпературные характеристики, износостойкость, улучшенную коррозионную стойкость, лучшие механические свойства и улучшенный внешний вид. Одним из многих методов лазерного легирования поверхности является лазерное плакирование. Общая цель лазерного плакирования - выборочно обработать определенную область. В лазерном плакировании тонкий слой металла (или порошкового металла) соединяется с основным металлом посредством обработки температурой и давлением. Перемещение подложки под пучком и перекрывающиеся дорожки осаждения могут охватывать большие площади. Предварительная обработка не является критичной, хотя поверхность может потребовать шероховатости перед осаждением. После выполняют шлифование или полировку.
Лазерное плакирование может использовать большинство тех же материалов, что и технологии термического напыления. Материалы, которые легко окисляются, трудно осаждать без использования инертного газа. Скорости осаждения зависят от мощности лазера и скорости перемещения. Толщина может варьироваться от нескольких сотен микрон до нескольких миллиметров. Однако, если плотность слишком высокая, возможно образование трещин и расслоение, как в случае алюминия и некоторых сталей. Эта технология также не способна покрывать области, которые находятся вне зоны видимости.
Химическое осаждение из паровой фазы (СVD напыление)
В процессах CVD химическая смесь реагентного газа контактирует с подложкой и затем осаждается в нее. Газы подаются в камеру при нормальных давлениях и температурах, в то время как твердые вещества и жидкости требуют высоких температур и / или низкого давления.
Процесс разложения может быть ускорен или ускорен с использованием тепла, плазмы или других процессов. Химическое осаждение из паровой фазы включает в себя распыление, ионное покрытие, CVD с повышением температуры, CVD с низким давлением, CVD с улучшенным лазерным излучением, активное реактивное испарение, ионный пучок, лазерное испарение и другие варианты. Эти процессы обычно отличаются способами, с помощью которых инициируются химические реакции и обычно классифицируются по рабочему давлению.
Основными шагами в процессах вакуумного напыления CVD являются:
Формирование реакционной газовой смеси
Массовый перенос газа-реагента через пограничный слой на подложку
Адсорбция реагентов на субстрате
Предварительная обработка включает механическую и / или химическую очистку (например, ультразвуковую очистку и / или обезжиривание паром), а затем в некоторых случаях путем хонингования паром (для улучшения адгезии). Кроме того, камера осаждения должна быть чистой, герметичной и не содержать пыли и влаги.
Вакуумное напыление CVD используется для защиты от коррозии и износостойкости и применяется к материалам для получения конкретных свойств, которые трудно получить при других процессах. Наиболее часто используемыми металлами в CVD являются никель, вольфрам, хром и карбид титана.
Большинство приложений находятся в электронике оптической, оптоэлектрической, фотоэлектрической и химической промышленности. CVD используется для нанесения покрытий и формирования фольги, порошков, композиционных материалов, отдельно стоящих тел, сферических частиц, нитей и усов.
Вакуумное напыление нитрида титана и титанового карбонитрида
Нитрид титана (TiN) может наноситься с использованием либо PVD, либо CVD-методов. Для высокоскоростных стальных применений обычно предпочтительны процессы PVD. Однако процессы PVD имеют определенные ограничения в отношении геометрии компонентов, необходимость вращения детали для достижения однородности и температуры
Температура обработки CVD обычно составляет от 850 до 1100°C. Основная химическая реакция (Уравнение 1) в CVD- для получения слоя TiN находится между тетрахлоридом титана (TiCl4), азотом (N) и водородом (H):
В отличие от этого, процессы вакуумного напыления PVD работают при гораздо более низких температурах, в диапазоне от 400 до 600 C (750 - 1100ºF) или ниже. Процессы PVD полагаются на ионную бомбардировку вместо высоких температур (как в случае CVD) в качестве движущей силы. Покрываемую подложку помещают в вакуумную камеру и нагревают до температуры. Материал Ti, испаряется и химически активный газ, такой как N2 вводится и ионизированный; Испаренные атомы титана затем взаимодействуют с ионизированным азотом с образованием соединения TiN, которое откладывается на подложке. Существует три основных процесса PVD для инструментов: испарение, вакуумное напыление и реактивное ионное покрытие, отличающееся главным образом тем, как испаряется реагирующий металл.
Покрытия из карбонитрида титана (TiCN) имеют немного более высокую твердость по сравнению с TiN и могут демонстрировать несколько меньший коэффициент трения во многих областях применения. Они в основном используются для достижения повышенной абразивной износостойкости.
Вакуумное напыление PVD широко используется для высокоскоростных и инструментальных сталей, поскольку температуры процесса CVD попадают в диапазон, в котором закаливаются некоторые инструментальные стали. Может потребоваться обработка после нанесения покрытия (повторное упрочнение и повторное закаливание). Эти обработки могут влиять на адгезию и размеры покрытия.
Механические и физические свойства, полученные покрытиями TiN, аналогичны механическим и физическим свойствам других обычных покрытий. Преимущество TiN на высокоскоростных и других инструментальных сталях:
NCI-Swissnanocoat SA (ШВЕЙЦАРИЯ)
Выберите подходящую компанию по перевозкам из Швейцарии в Россию
Разрешительная документация для РФ (Сертификация продукции)
Для ввоза продукции в Таможенный союз (ТС) в частности Россию, необходимо получить разрешительные документы в частности декларацию соответствия ТР ТС. Стоимость декларации 9000 рублей, возможно вам потребуются Протоколы Испытаний
Так же для законной продажи продукции НЦЫ Свиснанокоат СА вам так же потребуется декларация.
⁉️Вам скорее всего потребуется оформить временный ввоз продукции для предоставления образцов продукции.
Таможенное оформление товаров
Для быстрого прохождения таможни вы можете обратиться к специализированным брокерам или подготовить весь комплект документов самостоятельно для ввоза на территорию ТС из Швейцарии
- Внешнеторговый договор со всеми приложениями
- Инвойс / invoice (оригинал) + перевод Proforma или Commercial
- Телекс либо счет подтверждающий стоимость транспортировки
- Страховой полис
- Паспорт сделки при сделке свыше 50 000$
- Упаковочный лист (packing list)
Сроки доставки из Швейцарии от 3х дней
Если вам необходим доставить не большую партию груза с помощью авиаперевозки сроки доставки 3-5 дней. Стоимость доставки 5$ за 1 кг груза. При доставке больших грузов. Например с помощью мультимодальных грузоперевозок, вы можете доставить груз по цене 50 центов за 1 кг. Сроки от 20 дней.
NCI-Swissnanocoat SA запчасти или расходники
- Данные компании, где необходимо купить
- Список запчастей, (название, артикул)
- Место доставки
- Ваши контактные данные
Таможенные платежи при импорте
| Продукция | Код ТН ВЭД | Импортная пошлина | Ввозной НДС |
|---|---|---|---|
| Оборудование лабораторное: установка для вакуумного осаждения металлов и углеродных покрытий из паровой фазы | 8419893000 | 0% | 20% |
| Оборудование химическое: устройство по нанесению покрытий оксидов на изделия | 8419899890 | 0% | 20% |
| Генератор атмосферной плазмы, напряжение питания 220 В, марка “SuperJet” | 8543709000 | 0% | 20% |
| Оборудование лабораторное: прибор для определения толщины покрытий, устойчивости к износу, определения качества адгезии покрытия к подложке, | 9024101900 | 0% | 20% |
Компания производитель ввозила товары по следующим именам: NCI Swissnanocoat SA, NCI-Swissnanocoat SA, NCI-SwissNanocoat SA.. Вы можете купить товары через официального дистрибьютера или напрямую через наш сайт
Плазмохимическое осаждение
Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА является официальным дистрибьютором компании Plasma-Therm LLC и Advanced Vacuum Systems AB (с 2011г. входит в группу компаний Plasma-Therm). Более 40 лет Plasma-Therm производит высококачественное оборудование R&D и промышленного назначения. Компания имеет более 37 патентов в области плазменных технологий. Располагая собственной лабораторией по разработке технологических процессов, компания обеспечивает своих клиентов самыми передовыми технологиями и поставляет системы плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), плазмохимического осаждения с источником индуктивно связанной плазмы (HDP-CVD). При производстве используются только высококачественные комплектующие, что обеспечивает непревзойденную надежность оборудования. ЗЭНКО ПЛАЗМА производит поставку, пуско-наладку, гарантийное и пост гарантийное обслуживание.
Системы для R&D и мелкосерийного производства:
Vision 310 – установка PECVD осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза. Групповая и одиночная обработка пластин диаметром от 50 до 300мм.
Vision 410 – установка PECVD осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза. Групповая и одиночная обработка пластин диаметром от 50 до 400мм.
Apex SLR HDP-CVD - высоконадежная и экономически выгодная установка осаждения диэлектрических слоев для мелкосерийного производства. Установка оснащена источником ICP плазмы, позволяющим проводить процессы осаждения при температуре 180⁰С. Обеспечивает полуавтоматическую загрузку через шлюзовую камеру, индивидуальную обработку пластин диаметром до 200мм, возможность плазмохимического осаждения легированных слоев.
Промышленные системы осаждения:
Versaline PECVD – является флагманским продуктом компании Plasma-Therm для процессов плазмохимического осаждения слоев диэлектриков из газовой фазы. Система Versaline – это оборудование с возможностью широкой конфигурацией отдельных узлов системы согласно требованиям заказчика, обеспечивает индивидуальную и групповую обработку пластин разных материалов, размеров и форм. Имеет большую библиотеку осаждаемых материалов. Обеспечивает работу из кассеты в кассету, возможность кластерного исполнения (до 6-ти камер), размер электрода – 11" (279мм). Поставляется в двух вариантах: PECVD и HDP-CVD.
LA PECVD – представляет собой высокопроизводительное и экономически выгодное решение производства Plasma-Therm, для процессов плазмохимического осаждения слоев диэлектриков из газовой фазы. Система специально разработана для групповой обработки большого количества подложек до 3 пластин диаметром 200мм. Обеспечивает работу из кассеты в кассету, кластерное исполнение (до 2-х камер).
Читайте также: